도금 첨가제 제조 원료약품

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Shozo MIZUMOTO 19건

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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅

습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

고무와 무전해 Pd-P 합금도금 피막과의 가류접착 - 유황의 영향과 내수성

무전해 팔라듐-인 Pd-P 합금도금 피막과 고무와의 직접 가류접착성 및 접착물의 내수성에 있어서 고무배합중의 유황첨가량, 가류촉진제 또는 노화방지제의 영향에 관하여 검토

응용도금 · 일본고무협회지 · 64권 6호 1991년 · Yoshiyuki IKEDA · Hidemi NAWAFUNE 외 .. 참조 13회

트리메틸 아민보란을 환원제로한 무전해 팔라듐-붕소 Pd-B 합금도금 및 피막특성

TMAB 를 환원제로한 에틸렌디아민착체욕에서 무전해 팔라듐-붕소 Pd-B 합금도금에 관하여, 도금조건을 확립하고, 석출물조성 및 결정구조에 관하여 검토하였으며, 석출피막의 경도, 접촉저항 및 납땜 접합성을 측정하여, 전자부품의 표면처리 재료의 적응성을 평가

무전해도금기타 · 회로실장학회지 · 11권 4호 1996년 · Hidemi NAWAFUNE · Yuuki KAMIURA 외 .. 참조 53회

ULSI 구리배선의 형성을 목적으로 한 에텔렌디아민 착화욕에서의 구리전석

분극저항이 큰 에틸렌디아민 착화욕에서의 구리 전석에 관하여, 유기유황계 첨가제를 사용하지 않고, [[균일전척성] 및 물성이 우수한 구리판을 만드는 조건의 확립과, LSI 구리배선 형성의 적용 가능성을 검토

구리/합금 · 표면기술 · 50권 7호 1999년 · Hidemi NAWAFUNE · Hiroshi KITAMURA 외 .. 참조 34회

아인산염을 한원제로한 무전해 Pd-P 합금도금 및 그 석출기구

아인산염을 환원제로한 에틸렌디아민 착화욕에서 무전해팔라듐도금에 관하여 P의 공석, 결정기구 및 피막의 경도를 조사하고, Pd P의 석출속도 및 아인산이온의 산화 속도측정에 따라 석출기구를 검토

도금자료기타 · 표면기술 · 42권 11호 1991년 · Masaki RAGA · Ei UCHIDA 외 .. 참조 22회

ULSI 배선형성을 목적으로 한 에틸렌디아민 착화욕에서의 보이드프리 구리의 전석

분극저항이 큰 에틸렌디아민 착화욕에서 구리의 전석에 관하여, 균일전착성 및 물성이 우수한 구리피막을 만드는 조건에 관하여 설명

구리/합금 · 표면기술 · 51권 11호 2000년 · Hidemi NAWAFUNE · Hiroshi KITAMURA 외 .. 참조 23회

무전해-니켈 2원합금도금 및 그 전기저항특성

증착조건, 합금구성, 구조 및 전기저항 속성 (예 : 비저항 및 TCR) 간의 관계에 중점을 두고 무전해 도금으로 박막 Cu-Ni 이원합금 저항기를 준비하는 방법이다.

합금/복합 · 표면기술 · 49권 7호 1998년 · Hidemi NAWAFUNE · Takashi UEGAKI 외 .. 참조 40회

DMAB을 환원제로한 무전해 니켈-붕소 합금도금의 무질수지 및 석출기구

DMAB을 환원제로한 무전해 니켈-붕소 합금도금에 관하여, 니켈 붕소의 석출량 과 수소깨스의 생성량을 측정하고, 도금전후 액중의 DMAB 농도를 FT-IR ATR 법에 의하여 정량하고, 소비량을 측정하여, 도금 반응의 물질수지, 환원제의 이용효율 및 반응기구에 대하여 검토

니켈/Ni · 표면기술 · 46권 10호 1995년 · Hidemi NAWAFUNE · Yasuhito KOHASHI 외 .. 참조 39회